[发明专利]利用温度控制来处理皮肤的设备和方法有效
| 申请号： | 200880019693.1 | 申请日： | 2008-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN101720213A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·科莱戴尔 | 申请（专利权）人： | 西纳龙医药有限公司 |
| 主分类号： | A61F7/00 | 分类号： | A61F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在超过0.5秒的处理时段内将个体的皮肤区域表面从初始温度加热至处理温度的方法和系统，其中处理温度位于40-60℃的范围内。RF发生器在第一电极与第二电极之间提供连续波RF电压能量或准连续波RF电压，其中至少所述第一电极与在皮肤表面上进行位移的高频发热器相关联。该系统进一步包括皮肤温度测量设备或者高频发热器位移速度测量设备；以及CPU，其监视皮肤温度或高频发热器位移速度。当皮肤温度高于预定温度或者高频发热器的位移速度低于预定速度时，CPU关闭RF能量，以防止皮肤过热。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 温度 控制 处理 皮肤 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在超过0.5秒的处理时段内将个体的皮肤表面下的组织体从初始温度加热至处理温度的系统，该处理温度位于40℃-60℃的范围内，该系统包括：(a)高频发热器；(b)RF发生器，其被配置为在第一电极与第二电极之间提供连续波RF电压能量或准连续波RF电压，至少一个电极与所述高频发热器相关联；(c)皮肤温度测量设备或高频发热器运动传感器；以及(d)CPU，其被配置为对皮肤温度或高频发热器位移速度进行监视，并且在所述皮肤温度高于预定温度或者所述高频发热器位移速度低于预定速度时关闭或减少RF能量。
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