[发明专利]薄膜太阳电池制造系统以及共用基板保管架无效
| 申请号： | 200880020468.X | 申请日： | 2008-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN101689582A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 秋山政记;井上正志 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L31/20 | 分类号： | H01L31/20;B65G49/06;B65D85/86 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可削减工场设置空间的薄膜太阳电池制造系统。薄膜太阳电池制造系统具备：第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多个处理装置(1～16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)倾斜地保管基板。多个处理装置(1～16-2)在薄膜太阳电池的制造工序中使用于基板处理，并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之间的区域，使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1)，另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多个处理装置(1～16-2)所共用。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 太阳电池 制造 系统 以及 共用 保管 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜太阳电池制造系统，其具备：第1共用基板保管架，其从铅直方向倾斜地保管基板；以及多个处理装置，其在薄膜太阳电池的制造工序中使用于上述基板的处理，并被配置为向上述第1共用基板保管架搬出已结束处理的基板，上述第1共用基板保管架被上述多个处理装置所共用，并且不遵从制造工序处理顺序地保管上述基板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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