[发明专利]用于形成硬涂层的成型用片无效

专利信息
申请号: 200880020566.3 申请日: 2008-07-03
公开(公告)号: CN101702891A 公开(公告)日: 2010-05-05
发明(设计)人: 木村信夫;芝田大干;长谷川一希 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: B32B27/26 分类号: B32B27/26;B05D1/28;C09D4/00;C09D5/00;C09D7/12;C09J7/02;G02B1/10;C08J7/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蒋亭;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供用于形成在半固化状态下保存性和对模具的追随性优异、完全固化后耐擦伤性优异的硬涂层的成型用片,具有硬涂层的成型体及其制造方法。本发明涉及用于形成硬涂层的成型用片以及使用了其的成型体,所述用于形成硬涂层的成型用片的特征在于,在基材上具有由含有a)式(I)所示的有机硅化合物和/或其缩合物、b)紫外线固化性化合物以及c)硅烷醇缩合催化剂的组合物的半固化物形成的层。RnSiX4-n(I)(式中,R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团,X表示羟基或水解性基团。n表示1或2,n为2时,R可以相同或不同,(4-n)为2以上时,X可以相同或不同。)
搜索关键词: 用于 形成 涂层 成型
【主权项】:
一种用于形成硬涂层的成型用片,其特征在于,在基材上具有硬涂层前体层,所述硬涂层前体层是由含有a)式(I)所示的有机硅化合物和/或其缩合物、b)紫外线固化性化合物以及c)硅烷醇缩合催化剂的组合物的半固化物形成的层,RnSiX4-n…(I)式中,R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团,X表示羟基或水解性基团,n表示1或2,n为2时,R可以相同或不同,(4-n)为2以上时,X可以相同或不同。
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