[发明专利]薄膜处理设备无效
| 申请号： | 200880021156.0 | 申请日： | 2008-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101754805A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | W·弗尔梅尔;C·施雷姆普夫;F·苏乔梅尔 | 申请（专利权）人： | 连津格股份公司 |
| 主分类号： | B01J19/18 | 分类号： | B01J19/18;B01J10/02;C08B1/00;B01D1/22;C08J3/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 姜云霞;谭祐祥 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜处理设备(8)，包括具有至少一个柱形部分(26)的转子(16)，至少一个刮擦叶片(32，33，34，35，36，41)布置在所述柱形部分上，所述刮擦叶片包括至少两个齿(42，43，44，42′，43′，44′)，所述齿相互间隔分开，由此形成间隙，其特征在于，一个齿(41)的长度L与位于所述齿的邻近处的间隙的长度G之间的平均比率V相应地大于2∶1。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种薄膜处理设备(8)，包括具有至少一个柱形部分(26)的转子(16)，至少一个刮擦叶片(32，33，34，35，36，41)被布置在所述柱形部分上，所述刮擦叶片包括至少两个齿(42，43，44，42′，43′，44′)，所述齿相互间隔分开，由此形成间隙，其特征在于，一个齿(41)的长度(L)与位于所述齿的邻近处的间隙的长度(G)之间的平均比率V相应地大于2∶1。
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