[发明专利]用于在过程管线中流动的介质的测量系统有效
申请号: | 200880021994.8 | 申请日: | 2008-06-27 |
公开(公告)号: | CN101730834A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 赖纳·赫克尔 | 申请(专利权)人: | 恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司 |
主分类号: | G01F1/32 | 分类号: | G01F1/32;G01N9/26 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 邹璐;樊卫民 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 测量系统,用于测量在过程管线中流动的介质的密度,该介质沿着测量系统的虚拟流动轴线在热力学状态方面是可变的。测量系统为此包括:至少一个主要对于流经的介质的局部温度θ作出反应的温度传感器、至少一个主要对于流经的介质的局部压力p作出反应的压力传感器、至少一个放置于流动测量点且主要对于被测介质的局部流动参数作出反应的流动传感器、以及测量电子装置,其至少间歇地至少与温度传感器、压力传感器和流动传感器通信。通过使用温度测量信号和压力测量信号以及流动测量信号,测量电子装置至少间歇地产生至少一个密度测量值,其瞬时代表流动的介质在虚拟的密度测量点所具有的局部密度ρ。 | ||
搜索关键词: | 用于 过程 管线 流动 介质 测量 系统 | ||
【主权项】:
测量系统,用于测量在过程管线中流动的介质的密度,该介质沿着测量系统的虚拟流动轴线在热力学状态方面是可变的,特别地至少部分是可压缩的,该测量系统包括:-至少一个温度传感器,其放置于温度测量点(Mθ),主要对于流经的介质的局部温度θ作出反应,该温度传感器发出至少一个由被测介质的局部温度影响的温度测量信号(xθ);-至少一个压力传感器,其放置于压力测量点(Mp),主要对于流经的介质的局部的特别是静态的压力p作出反应,该压力传感器发出至少一个由被测介质中的局部压力p影响的压力测量信号(xp);-至少一个流动传感器,其放置于流动测量点并且主要对于被测介质的局部流动参数特别是局部流动参数的变化作出反应,该流动参数特别是在过程管线的横截面上平均的流动参数,特别是流速、体积流量或质量流量,并且流动传感器提供至少一个受到局部流动参数影响的流动测量信号;以及-测量电子装置,其至少间歇地至少与温度传感器、压力传感器和流动传感器通信,通过使用温度测量信号和压力测量信号以及流动测量信号,测量电子装置至少间歇地产生至少一个特别是数字的密度测量值(Xρ),其瞬时代表流动的介质在虚拟的密度测量点(M′ρ)所具有的局部密度ρ,密度测量点特别是以可预定的方式沿着流动轴线与压力测量点(Mp)和/或温度测量点(Mθ)相距设置。
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