[发明专利]用于表面处理或涂层的方法和设备无效
| 申请号： | 200880024207.5 | 申请日： | 2008-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101810060A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | M·比斯格斯 | 申请（专利权）人： | 赖茵豪森机械制造公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邓斐 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种借助等离子体进行表面处理或涂层的方法。其中，将一种气体载体输送到至少一个在空间上分开的反应室中，并使之与所产生的等离子体射流充分混合，从而使气体载体被活化或产生一种微粒射流，该微粒射流独立于等离子体流而作用到一个待处理或待涂层的工件的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 处理 涂层 方法 设备 | ||
【主权项】：
借助等离子体射流进行表面处理或涂层的方法，其中，通过在两个被施加一电压的电极之间放电，以及在供给一种工艺气体的情况下，产生等离子体射流，其特征在于：在排除所产生的等离子体射流周围的大气的条件下，将一种气体载体至少输送到一在空间上分开的反应室中，并使之与等离子体射流充分混合；随后气体载体被活化和/或产生一个微粒射流，该微粒射流独立于等离子体射流而流动；然后，被活化的气体载体射流和/或微粒射流作用到一个待处理或待涂层的工件的表面。
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