[发明专利]等离子体沉积设备

摘要

一种通过等离子体沉积来使物品(14)的表面涂覆有薄膜聚合物层的设备(10)，该设备包括：多个处理室(12a，12b，12c，...12n)，一个或多个物品能被放进该多个处理室中的每一个处理室内；用于对所述处理室提供活性物质以便在所述室中形成等离子体的装置(18，19，20，21，22)；多个感应装置(24)，其与相应的处理室相关联，每一个感应装置可操作以在关联的处理室内感生电场，以便在所述活性物质被提供到该处理室时形成等离子体，使得所述物品表面能通过等离子体沉积而被涂覆有薄膜聚合物层；用于在感应装置中提供随时间变化的电流的装置(26)；以及压力控制装置(28)，其用于选择性地控制所述处理室中的压力，使得所述室中的任何一个或多个室中的压力能独立于所述室中其它室中的压力而被控制。

主权项

一种用于涂覆的设备，其用于通过等离子体沉积来使物品的表面涂覆有薄膜聚合物层，所述设备包括：至少一个处理室，一个或多个物品能放入所述至少一个处理室内；用于提供物质的装置，其用于对所述至少一个处理室提供物质，所述物质能够被形成等离子体；等离子体形成装置，其与所述处理室相关联，所述等离子体形成装置可操作以在所述物质被提供到关联的处理室时在所述关联的处理室内建立电场以便形成等离子体，使得所述物品的表面能通过等离子体沉积而被涂覆有薄膜聚合物层；用于提供随时间改变的电流的装置，其用于对所述等离子体形成装置提供随时间改变的电流；以及压力改变装置，其用于选择性地控制所述处理室内的压力，以使所述室中的任何一个或多个室中的压力能独立于所述室中的另一个室中的压力被控制。