[发明专利]用于干扰测量法的生成模型信号有效
申请号: | 200880025337.0 | 申请日: | 2008-07-14 |
公开(公告)号: | CN101755187A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 泽维尔·科洛纳德莱加 | 申请(专利权)人: | 齐戈股份有限公司 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邵亚丽 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种方法,该方法包括:对于具有不同反射率的、测试物体上的测试表面的多个区域中的每一个,使用干涉测量系统以第一操作模式测量每一个区域,该第一操作模式在一定的角度和波长的范围内测量有关区域反射率的信息;使用同一干涉测量系统以第二操作模式测量测试表面,该第二操作模式在包括所述多个区域中的至少一些的范围内干涉地描绘测试表面形貌的轮廓;以及基于有关所述多个区域的反射率的信息校正轮廓以减少误差。 | ||
搜索关键词: | 用于 干扰 测量 生成 模型 信号 | ||
【主权项】:
一种干涉测量方法,包括:在一定照明角度的范围内将测试光指向第一校准表面,并且将从第一校准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案,其中,来自第一校准表面的测试光与参考光源自共同光源;将来自第一校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器,使得检测器的不同组件通过测试光对应于第一校准表面的不同照明角度;在一定照明角度的范围内将测试光指向不同于第一校准表面的第二校准表面,并且将从第二校准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案,其中,来自第二校准表面的测试光与参考光源自共同光源;将来自第二校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器,使得检测器的不同组件通过测试光对应于第二校准表面的不同照明角度;以及基于对从第一和第二校准表面出射的测试光、由检测器的不同组件测量的干涉信号和有关第一和第二校准表面的其它信息来确定有关干涉测量系统的信息,其中:有关干涉测量系统的信息包括与下列至少其中一个相对应的信息:共同光源的频谱分布、与平行于入射面的偏振状态相比的垂直于入射面的偏振状态的相对衰减、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱分布的变化、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的平均强度的变化、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的相位的变化、以及穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱强度的变化。
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