[发明专利]用于干扰测量法的生成模型信号有效

专利信息
申请号: 200880025337.0 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101755187A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 泽维尔·科洛纳德莱加 申请(专利权)人: 齐戈股份有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邵亚丽
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种方法,该方法包括:对于具有不同反射率的、测试物体上的测试表面的多个区域中的每一个,使用干涉测量系统以第一操作模式测量每一个区域,该第一操作模式在一定的角度和波长的范围内测量有关区域反射率的信息;使用同一干涉测量系统以第二操作模式测量测试表面,该第二操作模式在包括所述多个区域中的至少一些的范围内干涉地描绘测试表面形貌的轮廓;以及基于有关所述多个区域的反射率的信息校正轮廓以减少误差。
搜索关键词: 用于 干扰 测量 生成 模型 信号
【主权项】:
一种干涉测量方法,包括:在一定照明角度的范围内将测试光指向第一校准表面,并且将从第一校准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案,其中,来自第一校准表面的测试光与参考光源自共同光源;将来自第一校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器,使得检测器的不同组件通过测试光对应于第一校准表面的不同照明角度;在一定照明角度的范围内将测试光指向不同于第一校准表面的第二校准表面,并且将从第二校准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案,其中,来自第二校准表面的测试光与参考光源自共同光源;将来自第二校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器,使得检测器的不同组件通过测试光对应于第二校准表面的不同照明角度;以及基于对从第一和第二校准表面出射的测试光、由检测器的不同组件测量的干涉信号和有关第一和第二校准表面的其它信息来确定有关干涉测量系统的信息,其中:有关干涉测量系统的信息包括与下列至少其中一个相对应的信息:共同光源的频谱分布、与平行于入射面的偏振状态相比的垂直于入射面的偏振状态的相对衰减、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱分布的变化、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的平均强度的变化、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的相位的变化、以及穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱强度的变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于齐戈股份有限公司,未经齐戈股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880025337.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top