[发明专利]在晶圆上沉积薄膜的反应器

摘要

一种沉积薄膜的装置。基板支撑单元可转动地安装于反应器内部并设有多个基板承载部分，其上分别承载多个基板。气体注入单元包括：多个源气体注入器，以提供至少二种不同的源气体至基板支撑单元上；多个冲洗气体注入器，设置于多个源气体注入器之间以提供冲洗各源气体的冲洗气体至基板支撑单元上，多个源气体注入器及多个冲洗气体注入器径向地安装在基板支撑单元上。排气单元呈环状围绕基板支撑单元的外周而设置且包括：排气通道，具有多个排气口以引导并将至少二种源气体排出至反应器外部；以及多个隔板，安装于排气渠道内且将排气通道区隔为多个彼此隔离的排气通路，藉此，以不同的路径将多个源气体注入器所提供的至少二种源气体排出至外部。

主权项

一种沉积薄膜的装置，其特征在于包括：反应器；基板支撑单元，可转动地安装于所述反应器内部并设有多个基板承载部分，所述多个基板承载部分上分别装载多个基板；气体注入单元，包括多个源气体注入器，以提供至少二种不同的源气体至所述基板支撑单元上，且多个冲洗气体注入器设置于所述多个源气体注入器之间，以提供冲洗所述源气体的冲洗气体至所述基板支撑单元上，所述多个源气体注入器及所述多个冲洗气体注入器径向地安装在所述基板支撑单元上；以及排气单元，呈环状设置以围绕所述基板支撑单元的外周，且所述排气单元包括：排气通道，具有多个排气口以引导并将所述至少二种源气体排出至反应器外部，以及多个隔板，安装于所述排气通道内且将所述排气通道区隔为多个彼此隔离的排气通路，藉此以不同路径而将所述多个源气体注入器所提供的所述至少二种源气体排出至所述外部。