[发明专利]原料气体的供给系统以及成膜装置无效
申请号: | 200880100433.7 | 申请日: | 2008-09-22 |
公开(公告)号: | CN101772590A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 原正道;五味淳;前川伸次;山本薰;多贺敏 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L21/31 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李伟;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 原料气体供给系统(6),对成为减压环境的气体使用系统(2)供给原料气体。系统具有:存留液体原料或者固体原料的原料罐(40)、一端与原料罐连接而另一端与气体使用系统连接的原料通路(46)、向原料罐内供给运载气体的运载气体供给机构(54)、在原料通路的中途设置的开闭阀(48,50)、加热原料通路以及开闭阀的加热器(64)、控制加热器的温度控制部(92)。原料通路以及上述开闭阀使用具有良好导热性的金属材料形成。 | ||
搜索关键词: | 原料 气体 供给 系统 以及 装置 | ||
【主权项】:
一种原料气体的供给系统,对成为减压环境的气体使用系统供给原料气体,其特征在于,具备:存留液体原料或者固体原料的原料罐;一端与上述原料罐连接、另一端与上述气体使用系统连接的原料通路;与上述原料罐连接、边进行流量控制边向上述原料罐内供给运载气体的运载气体供给机构;在上述原料通路的中途设置的开闭阀;加热上述原料通路以及上述开闭阀的加热器;控制上述加热器的温度控制部,上述原料通路以及上述开闭阀分别利用具有良好的导热性的金属材料来形成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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