[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200880100971.6 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101765811A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;A·L·H·J·范米尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：照射系统，该照射系统被配置以调节辐射束；图案支撑件，该图案支撑件被配置以保持图案形成装置，所述图案形成装置被配置以对所述辐射束进行图案化，用于形成图案化的辐射束；衬底保持件，该衬底保持件被配置以保持衬底，所述衬底保持件包括与所述衬底接触的支撑表面；投影系统，该投影系统被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上；和清洁系统，该清洁系统包括清洁单元，所述清洁单元被构造和布置以在所述衬底保持件的所述支撑表面上产生基团，用于从其上移除污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，所述照射系统被配置以调节辐射束；图案支撑件，所述图案支撑件被配置以保持图案形成装置，所述图案形成装置被配置以对所述辐射束进行图案化，以形成图案化的辐射束；衬底保持件，所述衬底保持件被配置以保持衬底，所述衬底保持件包括与所述衬底接触的支撑表面；投影系统，所述投影系统被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上；和清洁系统，所述清洁系统包括清洁单元，所述清洁单元被构造和布置以在所述衬底保持件的所述支撑表面上产生基团，以从其上移除污染物。
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