[发明专利]制造薄膜Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳能电池的方法无效

专利信息
申请号: 200880101271.9 申请日: 2008-07-03
公开(公告)号: CN101790794A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: N·潘;G·希勒;D·P·沃;R·塔塔瓦蒂;C·由特希;D·麦卡鲁姆;G·玛丁 申请(专利权)人: 微连器件公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平;徐志明
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明利用其中牺牲层包括在基底和薄膜III-V族化合物太阳能电池之间的外延生长中的外延层剥离方法。为了在基底不存在的情况下为薄膜III-V族化合物太阳能电池提供支持,在薄膜III-V族化合物太阳能电池从基底分离之前,向薄膜III-V族化合物太阳能电池表面应用背衬层。为了从基底分离薄膜III-V族化合物太阳能电池,作为外延层剥离的一部分除去牺牲层。一旦薄膜III-V族化合物太阳能电池与基底分离,基底可以重复用于形成另一薄膜III-V族化合物太阳能电池。
搜索关键词: 制造 薄膜 化合物 太阳能电池 方法
【主权项】:
一种制造薄膜III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括以下步骤:提供基底;在基底上形成牺牲层;在牺牲层上形成活性层;在活性层上形成背衬层;和从活性层和基底之间除去牺牲层,以便薄膜III-V族化合物太阳能电池与基底分离。
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