[发明专利]用于光刻法的可非共价交联的材料有效
| 申请号： | 200880101360.3 | 申请日： | 2008-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101802711A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | D·M·沙利文;黄润辉;C·J·奈夫;戴金华;M·B·斯沃普 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16;C08F212/04;C08F236/06;C08F220/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉;周承泽 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述使用非共价交联的树脂涂层用于光刻应用的组合物和方法。这些材料设计用来在涂覆之后经历一种变化，从而提供耐溶剂性，以及为一些材料同时提供水基可溶性。非共价相互作用使得与共价交联的材料相比能够更容易地去除这些涂层。这些种类的材料非常适合于沟槽填充和缝隙填充应用，还适合于减反射涂层、旋涂碳层和蚀刻掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 共价 交联 材料 | ||
【主权项】：
一种组合件，其包括：具有表面的基材；和与所述表面相邻的非共价交联的层，所述层由包含溶解或分散在溶剂体系中的聚合物的组合物形成。
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