[发明专利]对样本成像的方法无效
| 申请号： | 200880103330.6 | 申请日： | 2008-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN101779155A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | D·沃森;L·巴克;B·赫尔斯肯;S·斯塔林加 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/00 | 分类号： | G02B21/00;G02B21/14;G02B21/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘鹏;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种对样本成像的方法包括步骤：提供S1参考光斑阵列104；利用所述参考光斑阵列104照射样本106并且获取S2至少一幅样本图像IMSi，所述样本图像包括从与样本106相互作用的参考光斑阵列得到的样本相关光斑阵列107；确定S3多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数；以及通过在对应的样本相关光斑位置处绘制所述多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数来构造S4样本的图像IMS。 | ||
| 搜索关键词： | 样本 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种对样本成像的方法，包括步骤：a)提供(S1)参考光斑阵列(104)，b)利用所述参考光斑阵列(104)照射样本(106)并且获取(S2)至少一幅样本图像(IMSi)，所述样本图像包括从与样本(106)相互作用的参考光斑阵列得到的样本相关光斑阵列(107)，c)确定(S3)多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数，以及d)通过在对应的样本相关光斑位置处绘制所述多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数来构造(S4)样本的图像(IMS)。
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