[发明专利]薄膜的形成方法、有机电致发光元件的制造方法、半导体元件的制造方法及光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200880104014.0 | 申请日： | 2008-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101785363A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 伊藤范人 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种利用涂布法、使用液状材料，以低成本且简便地在基板上的规定区域图案化形成薄膜的方法，以及使用该方法制造有机电致发光元件、半导体元件、光学元件的方法。本发明的薄膜的形成方法是将含有薄膜形成材料的液状材料(16a)涂布在基板(11)上而于规定区域形成薄膜的方法，该方法包括：对基板(11)进行疏液处理而在基板(11)形成疏液性表面(A)的工序；在基板(11)的疏液性表面(A)图案化形成衬底层(15)的工序，所述衬底层(15)对于液状材料(16a)比所述疏液性表面(A)更具有亲液性；以及在衬底层(15)上涂布液状材料(16a)并使之干燥的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 方法 有机 电致发光 元件 制造 半导体 光学 | ||
【主权项】：
一种薄膜的形成方法，其特征在于，是将含有薄膜形成材料的液状材料涂布在基板上而于规定的区域形成薄膜的方法，包括：对所述基板进行疏液处理的工序；在所述基板的经疏液处理的面图案化形成衬底层的工序，所述衬底层对于所述液状材料比所述经疏液处理的面更具有亲液性；以及在所述衬底层上涂布所述液状材料并使之干燥的工序。
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