[发明专利]可控光学元件以及用热致动器操作光学元件的方法和半导体光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 200880104142.5 | 申请日： | 2008-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN101784954A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·豪夫;乌尔里克·舍恩霍夫;帕亚姆·泰耶巴蒂;迈克尔·蒂尔;蒂尔曼·海尔;奥利·弗吕格;阿里夫·卡齐;亚历山大·索尔霍弗;格哈德·福赫特;约琴·韦伯;托拉尔夫·格鲁纳;阿克赛尔·戈纳迈耶;德克·赫尔韦格 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G02F7/00 | 分类号： | G02F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及具有热致动器的光学校正装置(208、600)，该热致动器影响光学校正装置(208、600)中的热分布。光学校正装置(208、600)由至少两个传输热的能力不同的局部元件(201、202、604)构建。此外，本发明涉及影响光学元件(208)中的温度分布的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 可控 光学 元件 以及 用热致动器 操作 方法 半导体 光刻 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种用于影响光学元件(203)中的温度分布的方法，包括：以局部界定方式向该光学元件(203)提供热并通过热沉(204)将热从该光学元件(203)取出，其特征在于，该光学元件(203)的平均温度在数百mK内保持恒定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司，未经卡尔蔡司SMT股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880104142.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：防轮椅侧滑的斜坡板
- 下一篇：压电振动设备系统和电子装置
