[发明专利]具有改进的耐磨性的可成像元件有效
| 申请号： | 200880104514.4 | 申请日： | 2008-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101918216A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | G·豪克;C·萨瓦里亚-豪克 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10;B41M5/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵苏林;韦欣华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 单和多层正性工作可成像元件包括油墨接受性外层，该油墨接受性外层包括无机、非金属、惰性离散颗粒，例如纳米级氧化硅、氧化铝或二氧化钛颗粒。这些颗粒在最外层中的存在改进所述元件的耐磨损和刮擦性。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 耐磨性 成像 元件 | ||
【主权项】：
一种正性工作可成像元件，其包括其上具有一个或多个可成像层的基材，所述可成像层的最外层包含分散在聚合物粘结剂内的无机、非金属、惰性离散颗粒，所述聚合物粘结剂在热成像之前不溶于碱性显影剂，且在热成像后可溶于所述碱性显影剂，所述元件还包含辐射吸收性化合物，所述离散颗粒具有1nm 0.5μm的平均粒度，并且基于最外可成像层的总干重计按至少1％的量存在于所述最外可成像层中。
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