[发明专利]被检体的缺陷检查方法有效
申请号: | 200880104958.8 | 申请日: | 2008-09-01 |
公开(公告)号: | CN101796381B | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 波多野达彦;宫下晃一;四方功 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20;G01M3/00;G01M3/38;G01N15/08;G01N21/88 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种被检体的缺陷检查方法,其包括以下过程:(1)将含有微粒的气体加压后送出到被检体的一个端面,在被检体的另一端面附近与所述另一端面平行地照射第一激光,而且从与所述另一端面垂直的位置对所述另一端面进行拍摄的过程;(2)将含有微粒的气体加压后送出到被检体的一个端面,在被检体的另一端面附近与所述另一端面平行地照射第二激光,而且从与所述另一端面垂直的位置对所述另一端面进行拍摄的过程;以及(3)根据所述过程(1)和过程(2)的拍摄结果来确定被检体的缺陷部位的过程。 | ||
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【主权项】:
一种被检体的缺陷检查方法,其特征在于,包括以下过程:(1)将含有微粒的气体加压后送出到被检体的一个端面,在被检体的另一端面附近与所述另一端面平行地照射第一激光,而且从与所述另一端面垂直的位置对所述另一端面进行拍摄的过程;(2)将含有微粒的气体加压后送出到被检体的一个端面,在被检体的另一端面附近与所述另一端面平行地照射在同一平面上与第一激光对置的第二激光,而且从与所述另一端面垂直的位置对所述另一端面进行拍摄的过程;以及(3)根据所述过程(1)和过程(2)的拍摄结果的影像亮度和来确定被检体的缺陷部位的过程。
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