[发明专利]金属膜的制造方法、底层组合物、金属膜及其应用

摘要

本发明所涉及的金属膜的制造方法，包括以下步骤：使用含有具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、具有碱性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合性化合物的底层组合物形成有机膜的有机膜形成步骤；将所述酸性基团转化为金属(M1)盐的金属盐生成步骤；通过使用金属(M2)离子水溶液进行处理，将所述酸性基团的金属(M1)盐转化为金属(M2)盐的金属固定步骤，所述金属(M2)离子水溶液含有离子化倾向比所述金属(M1)离子低的金属(M2)离子；将所述金属(M2)离子还原，在所述有机膜表面形成金属膜的还原步骤。由此，提供了能够在任意的基材上低成本地形成金属膜以及金属图案的金属膜的制造方法、底层组合物、由该方法制造的金属膜以及其应用。

主权项

一种金属膜制造方法，其特征在于包括以下步骤：有机膜形成步骤，将包含具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、具有碱性基团的加成聚合性化合物和具有亲水性官能团的加成聚合性化合物的底层组合物涂布在基板或薄膜上，并进行聚合而形成有机膜；金属盐生成步骤，用含有金属(M1)离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属(M1)盐；金属固定步骤，通过使用金属(M2)离子水溶液，对所述通过含有金属(M1)离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属(M1)盐转化为金属(M2)盐，所述金属(M2)离子水溶液含有离子化倾向比所述金属(M1)离子低的金属(M2)离子；还原步骤，将所述金属(M2)离子还原，在所述有机膜表面形成金属膜。