[发明专利]含硅的精细图案形成用组合物以及使用它的精细图案形成方法有效
| 申请号： | 200880106486.X | 申请日： | 2008-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101802718A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 拉尔夫·R·达梅尔;康文兵;清水泰雄;石川智规 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(日本)株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有高抗干蚀刻性的精细图案形成用组合物以及形成该精细图案的方法。该精细图案形成用组合物包含：含有具有硅氮烷键的重复单元的树脂；和溶剂，以及使用该组合物的精细图案形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 精细 图案 形成 组合 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种精细图案形成用组合物，包含：含有具有硅氮烷键的重复单元的树脂；和能溶解该树脂而不能溶解抗蚀图的溶剂。
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