[发明专利]多微HF接触结构有效
| 申请号： | 200880106642.2 | 申请日： | 2008-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN101803473A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | B·罗森伯格 | 申请（专利权）人： | 罗森伯格高频技术有限及两合公司 |
| 主分类号： | H05K1/02 | 分类号： | H05K1/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 德国弗*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种多微HF接触结构，其具有在机架开口(2)或机架通道内特别地在从同轴线或微带线到共面线过渡处穿过或进行接触的RF连接。所述RF连接由此包括结构在平面内的至少两个印刷电路板(3、4)，该至少两个印刷电路板(3、4)可以通过一个印刷电路板(3)的至少一个面状接触销(5)和另一个印刷电路板(4)的至少一个面状槽(6)而彼此连接。 | ||
| 搜索关键词： | 多微 hf 接触 结构 | ||
【主权项】：
一种多RF微接触结构，其具有在机架开口(2)或机架通道中，特别地在从同轴线或微带线到共面线过渡处，穿过或进行接触的RF连接，其特征在于，所述RF连接具有被结构在平面内的至少两个印刷电路板(3、4)，该至少两个印刷电路板(3、4)能够通过属于一个印刷电路板(3)的至少一个面状接触销(5)和属于另一个印刷电路板(4)的至少一个面状槽(6)连接在一起。
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