[发明专利]制造滤色器阵列的方法有效
| 申请号： | 200880108599.3 | 申请日： | 2008-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN101809470A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | J·费森;C·鲍尔 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘金凤;王丹昕 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于制造滤色器阵列和大气阻挡层的方法，包括步骤：将半反射材料层涂敷到衬底上、气相沉积本质上透明的层以便在半反射层的顶部上形成具有一厚度的光干涉层和一个或多个阶段，每个阶段包括：通过在光干涉层上进行印刷而生成图案化层、在整个图案化层上气相沉积本质上透明的层以便在与第一或前一光干涉层组合时提供光干涉层、用溶剂去除图案化层。然后，在最后的光干涉层之上涂敷第二层半反射材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 滤色器 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造滤色器阵列和大气阻挡层的方法，包括步骤：将半反射材料层涂敷到衬底上、气相沉积本质上透明的层以便在半反射层的顶部上形成具有一厚度的光干涉层和一个或多个阶段，所述一个或多个阶段中的每个阶段包括：通过在所述光干涉层上进行印刷而形成图案化层、在整个图案化层上气相沉积本质上透明的层以便在与第一或前一光干涉层组合时提供光干涉层、用溶剂去除图案化层；以及在最后的光干涉层之上涂敷第二层半反射材料。
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