[发明专利]通过大气压力下的原子层沉积(ALD)制造光学膜的方法

摘要

一种制备光学膜或光学阵列的方法包括：沿着伸长的基本平行的通道同时导入一系列气流以在基底上形成第一薄膜；其中所述一系列气流依次包括至少第一反应性气体材料、惰性吹扫气体和第二反应性气体材料；其中第一反应性气体材料能够与经第二反应性气体材料处理过的基底表面反应以形成第一薄膜；重复第一步骤多次，以产生具有第一光学特性的第一厚度的第一膜层；其中上述方法在大气压力下或在高于大气压力下实施；重复第一和第二步骤以产生第二膜层；其中该方法基本上在大气压力下或在高于大气压力下实施。

主权项

一种制备光学膜或光学阵列的方法，包括：a)沿伸长的基本平行的通道同时导入一系列气流以在基底上形成第一薄膜；其中所述一系列气流依次包括至少第一反应性气体材料、惰性吹扫气体和第二反应性气体材料；其中所述第一反应性气体材料能够与经所述第二反应性气体材料处理过的基底表面反应以形成所述第一薄膜；b)重复步骤a)多次，以产生具有第一光学特性的第一厚度的第一膜层；其中所述方法在大气压力下或在高于大气压力下实施；c)重复步骤a)和b)，以产生第二膜层；并且其中所述方法基本上在大气压力下或在高于大气压力下实施。