[发明专利]成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备有效
| 申请号： | 200880113375.1 | 申请日： | 2008-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN101836164A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根·曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 成像光学系统(7)具有多个镜(M1至M8)。这些镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)。镜(M6、M7、M8)的至少一个被遮拦，且由此具有供成像光(15)经过的通孔(21)。在像场(8)之前的光路中的第四最后镜(M5)没有被遮拦，且利用其光学有效反射表面的外边缘(22)提供成像光学系统(7)的光瞳平面中的中心遮蔽。第四最后镜(M5)和最后镜(M8)之间的距离为物场(4)和像场(8)之间的距离的至少10％，最接近像平面(9)的中间像平面(23)设置于最后镜(M8)和像平面(9)之间。成像光学系统(7)具有0.9的数值孔径。这些措施不需所有必须同时实现，且导致了成像光学系统具有改善的成像性能和/或减少的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 具有 类型 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少一个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，其特征在于所述成像光学系统(7)包括至少六个镜(M1至M8；M1至M6)，在像场(8)之前的在物场(4)和像场(8)之间的光路中第四最后镜(M5；M3)不包括通孔，且利用围绕所述第四最后镜(M5；M3)的光学有效表面的外边缘(22)提供成像光学系统(7)的光瞳平面(17；25，26)中的中心遮蔽。
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