[发明专利]成像光学系统、包括该类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备、以及利用该类型的投射曝光设备生产微结构部件的方法有效
| 申请号： | 200880113386.X | 申请日： | 2008-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN101836151A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根·曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 成像光学系统(8)的一个实施例仅具有镜作为光束引导光学部件。该成像光学系统(8)将至少一个物平面(6)中的至少一个物场(4、5)成像到至少一个像平面(11)中的至少一个像场(9、10)。在该成像光学系统(8)中，存在空间上彼此分离的两个物场(4、5)以及与该两个物场(4、5)相关联的同样空间上彼此分离的两个像场(9、10)。这导致成像光学系统的使用具有增加的灵活性。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 包括 类型 用于 微光 投射 曝光 设备 以及 利用 生产 微结构 部件 方法 | ||
【主权项】：
成像光学系统(8)，其仅包括镜作为光束引导光学部件(M1至M6；M1至M8；M1至M10)并将至少一个物平面(6；6a，6b)中的至少一个物场(4，5)成像到至少一个像平面(11；11，11a)中的至少一个像场(9，10)，其特征在于至少两个物场(4，5；4a，5a)，该至少两个物场(4，5；4a，5a)空间上彼此分离并与类似空间上彼此分离的两个像场(9，10；9a，10a)相关联；有通过成像光路共同使用的成像光学系统(8)的至少一个光部件(M3至M6；M5至M8；M7至M10)，成像路径至少部分地分离并呈现在彼此分离布置的物场(4，5；4a，5a)和彼此分离布置的像场(9，10；9a，10a)之间。
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