[发明专利]用于不均匀性聚焦的装置有效
| 申请号： | 200880113520.6 | 申请日： | 2008-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN101842166A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 布鲁斯·H·金;史蒂文·巴里·伍尔夫森;大卫·H·拉马希 | 申请（专利权）人： | 奥普托美克公司 |
| 主分类号： | B05B1/14 | 分类号： | B05B1/14;B05D5/12;B05B1/28;C23C16/00;H05K3/14;H01L21/44 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王旭 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于沉积物质的基本上平面型的组件。所述组件包括板，所述板当组装时限定至少一个气溶胶通道、包覆气体喷混室和喷嘴。这些组件优选是不均匀性的，并且优选是矩形。气溶胶通道可以进一步分隔以改善气溶胶流动的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 不均匀 聚焦 装置 | ||
【主权项】：
一种物质沉积组件，所述物质沉积组件包括：第一盖板和第二盖板，所述盖板中的一个或两个包括用于含物质的气溶胶的入口和一个或多个包覆气体入口；和在所述盖板之间密封的插入件，所述插入件包括至少一个与所述气溶胶入口和不均匀的喷嘴流体连接的气溶胶通道；其中所述一个或多个包覆气体入口与包覆体喷混室流体连接，所述包覆体喷混室包封所述至少一个气溶胶通道的出口和所述喷嘴的进口。
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