[发明专利]离子行为的评价方法和评价装置有效
申请号: | 200880113856.2 | 申请日: | 2008-08-26 |
公开(公告)号: | CN101842740A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 水崎真伸;内田龙男 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/13 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种离子行为的评价装置,具备:电压振荡器(17),其对液晶单元施加包含直流电压成分的电压和不包含直流电压成分的电压;残留DC电压测量部(20),其在预先确定的多个温度的每个温度下测量多组施加包含直流电压成分的电压的施加时间和施加包含直流电压成分的电压后所产生的残留DC电压的组合;速率测量部(21),其使用[数式1]进行曲线拟合,测量在每个温度下离子向液晶与取向膜之间的界面吸附的吸附速率常数和离子从界面脱离的脱离速率常数;以及能量测量部(22),其使用[数式2]进行曲线拟合,测量离子向界面吸附的吸附能量,并且使用[数式3]进行曲线拟合,测量离子从界面脱离的脱离能量。由此,提供一种求出在大的温度范围内防止影像残留的液晶材料、取向膜材料及其组合的离子行为的评价装置。[数式1] |
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搜索关键词: | 离子 行为 评价 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种离子行为的评价方法,根据在用取向膜夹住液晶而成的液晶单元中产生的残留DC电压来评价离子行为,其特征在于:包括如下工序:在预先确定的多个温度的各个温度下,测量对上述液晶单元施加包含直流电压成分的电压的施加时间和对上述液晶单元施加该电压后所产生的残留DC电压的多个组合;根据上述多个温度的各个温度下的上述施加时间和上述残留DC电压的多个组合,确定该温度下的离子向上述液晶与上述取向膜之间的界面吸附的吸附速率常数和离子从该界面脱离的脱离速率常数;以及根据上述多个温度的各个温度下的上述吸附速率常数确定离子向上述界面吸附的吸附能量,并且根据上述多个温度的各个温度下的上述脱离速率常数确定离子从上述界面脱离的脱离能量。
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