[发明专利]校正颜色的折反射物镜和包括其的投射曝光设备有效
| 申请号： | 200880114710.X | 申请日： | 2008-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN101849205A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 亚历山大·埃普尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G03B27/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 折反射物镜包括沿光轴布置的多个光学元件，用以像方数值孔径NA，利用来自中心波长λ附近的波带的电磁辐射，将来自物镜的物面中的物场的图案成像到物镜的像面区域中的像场。光学元件包括凹镜和多个透镜。投射物镜对于波带的各个波长λ在各自的匹兹伐表面中形成图案的像，匹兹伐表面对于不同波长彼此偏离。在实施例中，在给定波长，在像面区域中平行于光轴测量的、在像场的边缘场点(在最大像高y′)处的、匹兹伐表面从平面基准面的纵向偏离p根据dp/dλ＜(0.2λ/NA2)/nm而随波长λ变化。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 颜色 反射 物镜 包括 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种折反射物镜，包括：沿光轴布置的多个光学元件，以在像方数值孔径NA，利用来自中心波长λ附近的波带的电磁辐射，将来自物镜的物面中的物场的图案成像到物镜的像面区域中的像场，所述光学元件包括：一凹镜；和多个透镜，包括由具有定义中间阿贝数的不同阿贝数的不同材料制成的透镜，其中所述多个透镜中的至少一个是由具有等于或大于中间阿贝数的第一阿贝数的第一材料制成的第一透镜，以及所述多个透镜中的至少一个是由具有小于中间阿贝数的阿贝数的第二材料制成，以使所述投射物镜在对于波带的各个波长λ的各自的匹兹伐表面中形成图案的像，对于不同波长，所述匹兹伐表面彼此偏离；其中在给定波长、在像场的边缘场点(最大像高y’)处、在像面区域中平行于光轴测量的、匹兹伐表面从平面基准面的纵向偏离p根据dp/dλ＜(0.2λ/NA2)/nm随波长λ变化。
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