[发明专利]成像光学系统以及距离测定装置有效
| 申请号： | 200880115284.1 | 申请日： | 2008-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101855585A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 坂上典久;藤冈孝弘;幡手公英 | 申请（专利权）人： | 纳卢克斯株式会社 |
| 主分类号： | G02B17/00 | 分类号： | G02B17/00;G02B17/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供小型的、具有足够亮度的成像光学系统。本发明的成像光学系统具有3个反射镜，该成像光学系统构成为：在以视场中心的光轴为Z轴的XYZ正交坐标系中，在XZ剖面中保持光轴的方向的同时，在YZ剖面中使光轴的方向发生变化，入射到第2反射面的光路与从第3反射面射出的光路交叉，视场中心的光轴与像面的光轴平行。3个反射面中的至少1个为旋转非对称面。沿着与视场中心的光轴一致的光线的光路，设第2反射面与第3反射面之间的距离为L2、第3反射面与像面之间的距离为L3、该成像光学系统的等效F数为Fno，则满足0.5＜Fno(L2/L3)＜1.3。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 以及 距离 测定 装置 | ||
【主权项】：
一种具有3个反射镜的成像光学系统，其中，该成像光学系统构成为：在以视场中心的光轴为Z轴的XYZ正交坐标系中，在XZ剖面中保持光轴的方向的同时，在YZ剖面中改变光轴的方向，入射到第2反射面的光路与从第3反射面射出的光路交叉，视场中心的光轴与像面的光轴平行，3个反射面中的至少1个为旋转非对称面，顺着沿视场中心的光轴的光线的光路，设第2反射面与第3反射面之间的距离为L2、第3反射面与像面之间的距离为L3、该成像光学系统的等效F数为Fno，则该成像光学系统满足以下关系式：0.5＜Fno(L2/L3)＜1.3。
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