[发明专利]碳薄膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200880115404.8 | 申请日： | 2008-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101848861A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 新田祐树;中谷达行;冈本圭司 | 申请（专利权）人： | 东洋先进机床有限公司 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 刘多益 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碳薄膜及其制造方法。碳薄膜以形成在基材表面的碳薄膜为对象。包括碳碳键合的碳骨架及与构成碳骨架的碳键合的氨基。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种碳薄膜，其特征在于：包括：碳相互键合的膜主体，以及与构成所述膜主体的碳键合的氨基。
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