[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统有效
| 申请号： | 200880116467.5 | 申请日： | 2008-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101861548A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 达米安·菲奥尔卡;弗拉丹·布拉尼克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中该照明系统(200、700)在所述投射曝光设备的操作中对投射曝光设备的投射物镜(40)的物面(OP)进行照明，并且所述照明系统(200、700)被调整为使得在所述照明系统的操作中产生的并仅在所述物面(OP)中重叠的彼此成点对称关系的光分量(10、20)具有相互正交的偏振状态。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的照明系统，其中，在所述投射曝光设备的操作中，照明系统(200、700)对所述投射曝光设备的投射物镜(40)的物面(OP)进行照明；并且所述照明系统(200、700)被调整成使得在所述照明系统的操作中产生并且仅在所述物面(OP)中重叠的彼此成点对称关系的光分量(10、20)具有相互正交的偏振状态。
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