[发明专利]弹性波装置有效
| 申请号： | 200880117247.4 | 申请日： | 2008-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN101868915A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 高井努;早川德洋;西野太郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H03H9/145 | 分类号： | H03H9/145 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够使特性稳定的且具备保护膜的弹性波装置。弹性波装置(11)具备：(a)在基板(12)上形成有IDT电极(21)的弹性波元件；(b)按覆盖弹性波元件的方式所形成的保护膜(15)。保护膜(15)是以硅和氮为主要成分的氮化硅(SiNx)膜，在将硅和氮的组成比以1∶X来表示时X为1.15以下。 | ||
| 搜索关键词： | 弹性 装置 | ||
【主权项】：
一种弹性波装置，其特征在于，具备：弹性波元件，其在基板上形成有IDT电极；保护膜，其按照覆盖所述弹性波元件的方式形成，所述保护膜是以硅和氮为主要成分的氮化硅膜，在所述硅和所述氮的组成比以1∶X来表示时，所述X为1.15以下。
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