[发明专利]ZnO系半导体元件无效

专利信息
申请号: 200880119750.3 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN101889347A 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 中原健;川崎雅司;大友明;塚崎敦 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01L29/04 分类号: H01L29/04;H01L21/338;H01L21/363;H01L29/221;H01L29/778;H01L29/812;H01L33/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种ZnO系半导体元件,能够在层叠侧主面具有C面的MgZnO基板上生长平坦的ZnO系半导体层。该ZnO系半导体元件采用主面具有C面的MgxZn1-xO(0≤x<1)基板,并在以使所述主面的法线向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴与c轴所形成的Φm角满足0<Φm≤3的方式形成的主面上,使ZnO系半导体层(2~5)外延生长。然后,在ZnO系半导体层(5)上形成p电极(8),在MgxZn1-xO基板(1)的下侧形成n电极(9)。这样,通过在MgxZn1-xO基板(1)的表面形成沿m轴方向规则地排列的台阶,能够防止台阶积累现象,并且提高层叠在基板(1)上的半导体层的膜的平坦性。
搜索关键词: zno 半导体 元件
【主权项】:
一种ZnO系半导体元件,其特征在于,在主面具有C面的MgxZn1-xO、0≤x<1的基板上,将所述主面的法线向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴与c轴形成Φm度的角度,所述Φm满足0<Φm≤3的条件;在所述主面形成有ZnO系半导体层。
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