[发明专利]使用多强度重新分配函数进行绘制无效
申请号: | 200880121378.X | 申请日: | 2008-12-16 |
公开(公告)号: | CN101903912A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | H·莱曼;J·威斯;D·格勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G06T15/00 | 分类号: | G06T15/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于使用射线投射方法对包括多个体素的图像数据集进行可视化的系统(100),所述多个体素中的每个体素属于至少一个分类,所述至少一个分类中的每个分类与用于根据体素的所测得体素值计算所述体素的重定义体素值的强度重新分配函数相关联,系统包括采样单元(120),其用于基于与来自图像像素的投影射线上的样本定位邻近的至少一个体素的重定义体素值,计算所述投影射线投射上的所述样本定位处的样本值,其中,使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的所测得体素值计算所述至少一个体素的重定义体素值。 | ||
搜索关键词: | 使用 强度 重新 分配 函数 进行 绘制 | ||
【主权项】:
一种用于使用射线投射方法对包括多个体素的图像数据集进行可视化的系统(100),所述多个体素中的每个体素属于至少一个分类,所述至少一个分类中的每个分类与用于根据体素的测得体素值计算所述体素的重定义体素值的强度重新分配函数相关联,所述系统包括采样单元(120),其用于基于与从图像像素投射的投影射线上的样本定位邻近的至少一个体素的重定义体素值,计算所述投影射线上的所述样本定位处的样本值,其中,使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的测得体素值计算所述至少一个体素的所述重定义体素值。
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