[发明专利]含显影性增强化合物的辐射敏感性元件有效
申请号: | 200880121530.4 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN101903177A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | M·勒瓦农;M·纳卡什 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | B41C1/10 | 分类号: | B41C1/10;B41M5/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵苏林;艾尼瓦尔 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 正性工作可成像元件可以经成像和显影而制备成像元件例如平版印刷板。该可成像元件包括可成像层,该可成像层具有一种或多种碱可溶性聚合物粘结剂和由本文所述结构(DEC)或(DEC1)表示的显影性增强化合物,该显影性增强化合物是在每个分子中具有至少一个氨基和至少一个羧酸基的有机化合物。 | ||
搜索关键词: | 显影 增强 化合物 辐射 敏感性 元件 | ||
【主权项】:
一种正性工作可成像元件,其包括基材和在基材上的:可成像层,该可成像层包含含水碱性显影剂可溶性聚合物粘结剂、显影性增强化合物和辐射吸收性化合物,其中所述显影性增强化合物是具有至少一个氨基和至少一个羧酸基的有机化合物。
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