[发明专利]使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法无效
| 申请号： | 200880121715.5 | 申请日： | 2008-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101903830A | 公开（公告）日： | 2010-12-01 |
| 发明（设计）人： | D·阿布达拉;A·D·迪奥塞斯;A·G·蒂姆科;张汝志 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/09;G03F7/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的方法涉及使涂在抗反射涂膜上的光致抗蚀剂膜成像，包括a)由抗反射涂料组合物形成抗反射涂膜，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，b)用含水碱性处理溶液处理该抗反射膜，c)用含水清洗液清洗该经处理的抗反射膜，d)在该抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂的涂层，e)将该光致抗蚀剂膜成像式曝光，和f)用含水碱性显影溶液将该光致抗蚀剂显影。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 涂层 光致抗蚀剂 成像 方法 | ||
【主权项】：
使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法，包括：a)由抗反射涂料组合物形成抗反射膜，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，b)用含水碱性处理溶液处理该抗反射膜；c)用含水清洗液清洗该经处理的抗反射膜；d)在该抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂的涂层，e)将该光致抗蚀剂膜成像式曝光；和f)用含水碱性显影溶液将该光致抗蚀剂显影。
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