[发明专利]等离子体源机构及成膜装置无效

专利信息
申请号: 200880122593.1 申请日: 2008-12-12
公开(公告)号: CN101904227A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 松元孝文;铃木寿弘;中牟田雄;松本昌弘;久保昌司 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;C23C14/58
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;杨楷
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种使用能够再现性良好地生成大面积的等离子体,由此能够适用于广泛的用途的廉价的等离子体源的等离子体处理技术。本发明的等离子体源机构(1)能够适用于具有真空槽(20)的真空装置(21),该等离子体源机构(1)具有矩形环状的天线部(12)和磁石部(11),天线部(12)经由电介质部(10)而配置在真空槽(20)的外侧,能够施加高频电力,磁石部(11)在真空槽(20)的外侧经由电介质部(10)而配置在天线部(12)的附近,具有与天线部(12)相对应的矩形形状。天线部(12)的第1和第2天线线圈(14、15)邻接而接近配置,并且,第1和第2天线线圈(14、15)并联连接。
搜索关键词: 等离子体 机构 装置
【主权项】:
一种等离子体源机构,能够适用于具有真空槽的真空装置,所述等离子体源机构具有:环状的天线部,经由电介质部而配置在所述真空槽的外侧,具有直线状的天线本体部并能够施加高频电力;以及磁石部,在所述真空槽的外侧经由所述电介质部而配置在所述天线部的附近,并具有与所述天线部相对应的形状,其中,所述天线部的多个天线线圈邻接而接近配置,并且,该各个天线线圈并联连接。
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