[发明专利]纳米压印薄膜的制造方法、显示装置以及液晶显示装置无效
| 申请号： | 200880122604.6 | 申请日： | 2008-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101909858A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 今奥崇夫;田口登喜生;林秀和;津田和彦 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | B29C59/04 | 分类号： | B29C59/04;G02B1/11;G02B5/30;G02F1/1335;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种即使在薄膜的基材具有紫外线吸收能力的情况下也能够高效地制造出精度高的纳米压印薄膜的方法。本发明的纳米压印薄膜的制造方法是一种形成在基材上的、在表面具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印薄膜的制造方法，上述制造方法包括：第一工序，在包含紫外线吸收成分的基材上涂敷具有紫外线固化性的树脂来形成膜；第二工序，从上述膜的表面侧照射紫外线来形成半固化的膜；第三工序，对上述半固化的膜的表面进行凹凸处理来形成具有凹凸面的膜；以及第四工序，对上述具有凹凸面的膜进行固化处理来得到纳米压印薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 薄膜 制造 方法 显示装置 以及 液晶 | ||
【主权项】：
一种纳米压印薄膜的制造方法，该纳米压印薄膜形成在基材上，在表面具有纳米尺寸的凹凸，上述纳米压印薄膜的制造方法的特征在于：该制造方法包括：第一工序，在包含紫外线吸收成分的基材上涂敷具有紫外线固化性的树脂来形成膜；第二工序，从该膜的表面侧照射紫外线来形成半固化的膜；第三工序，对该半固化的膜的表面进行凹凸处理来形成具有凹凸面的膜；以及第四工序，对该具有凹凸面的膜进行固化处理来得到纳米压印薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社，未经夏普株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880122604.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
