[发明专利]成膜装置及成膜方法

摘要

本发明的目的在于提供一种成膜装置及成膜方法，以实现缩短在冷凝负荷较大时的排气系统的排气时间，从而提高生产性。为达到上述目的，本发明的对多个基材同时进行成膜处理的成膜装置包括：支承单元(50)，其具有支承部(55)，该支承部(55)对多个基材(2)进行支承，使其位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔(10)，其具有处理室(14)，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中自由旋转；成膜源(57、60)，其配置在上述真空腔(10)的内部；低温排气部(21)，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔(10)的上表面且与上部支承部件(52)相对；以及辅泵(22)。

主权项

一种成膜装置，用于对多个基材同时进行成膜处理，其特征在于，包括：支承单元，其具有旋转轴与支承部，该支承部，支承上述多个基材，使该多个基材位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔，其具有处理室，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中以上述旋转轴为中心自由旋转；成膜源，其配置在上述真空腔的内部；低温排气部，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔的上表面。