[发明专利]含镍的膜的形成材料和其制造方法

摘要

本发明的目的在于，提供一种用于含镍的膜的形成材料，其熔点低，可以以液体形式使用，且具有较高的蒸气压，进而工业上容易合成，较稳定，在使用CVD法来形成含镍的膜、优选硅化镍膜时容易形成良好的膜。本发明的含镍的膜的形成材料，其特征在于，含有下述式(1)的结构式所示的化合物。其中，R¹和R²各自独立地是氢原子、或下述式(2)的结构式所示的基团，此外，a和b分别为0～4的整数，除了R¹和R²均表示氢的情况以外，a和b满足0＜a+b≤4。其中，R³、R⁴和R⁵各自独立地是碳原子数为1～2的烷基。

主权项

1.一种含镍的膜的形成材料，其特征在于，含有下述式(1)的结构式所示的化合物，Ni(R¹_aC₆H_(5-a))(R²_bC₅H_(5-b))···(1)式(1)中，C₅H_(5-a)和C₅H_(5-b)表示环戊二烯基环，R¹和R²各自独立地是氢原子、或下述式(2)的结构式所示的基团，此外，a和b分别为0～4的整数，除了R¹和R²均表示氢的情况以外，a和b满足0＜a+b≤4，式(2)中，R³、R⁴和R⁵各自独立地是碳原子数为1～2的烷基。