[发明专利]辐射发射体及制造辐射发射体的方法有效
| 申请号： | 200880122953.8 | 申请日： | 2008-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101911319A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | F·埃伯哈德;R·温迪希;R·沃尔特;M·施马尔;M·阿尔斯泰特 | 申请（专利权）人： | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张涛;李家麟 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辐射发射体，包括层序列，该层序列具有用于生成电磁辐射的活性层(10)，具有反射所生成辐射的反射层(50)和具有至少一个布置在活性层(10)和反射层(50)之间的中间层(40)。在此活性层(10)在朝向反射层(50)的界面(15)上具有不平整结构，并且反射层(50)在朝向活性层(10)的界面(45)上是基本上平坦的。本发明还涉及一种用于制造辐射发射体的方法，其中在衬底上构造具有用于生成电磁辐射的活性层(10)的层序列。在此使活性层(10)的界面(15)不平整，并且构造至少一个中间层(40)和反射层(50)。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 发射 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种辐射发射体，包括 层序列， 具有用于生成电磁辐射的活性层(10)， 具有反射所生成的辐射的反射层(50)，和 具有至少一个布置在所述活性层(10)和所述反射层(50)之间的中间层(40)，其中所述活性层(10)在朝向反射层(50)的界面(15)上具有不平整结构，并且所述反射层(50)在朝向活性层(10)的界面(45)处基本上是平坦的。
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