[发明专利]光学薄膜和包含该光学薄膜的发光装置有效

专利信息
申请号: 200880123273.8 申请日: 2008-11-06
公开(公告)号: CN101978311A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 沈容植;金荣一;朴晸浩 申请(专利权)人: 株式会社LMS
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及光学薄膜和包含该光学薄膜的发光装置,光学薄膜形成有多个具有峰和谷部分的光学图案。光学图案的峰距、峰部分的高度和谷部分的深度是不规则的,并且光学图案的平面和侧视结构具有非线性、非对称分布结构,其中峰部分和谷部分是不规则弯曲。根据本发明的光学薄膜和包含该光学薄膜的发光装置,可以预先防止摩尔纹现象,改进耐磨性,以及即使当产生诸如划痕的光学缺陷时,该光学缺陷也不能用肉眼观察到,并且可防止光耦合现象,以及可以展宽视角。
搜索关键词: 光学薄膜 包含 发光 装置
【主权项】:
光学薄膜,包括基底和多个在基底表面上形成的具有峰和谷部分的光学图案,其中,光学图案的峰距,峰部分的高度和谷部分的深度是不规则的,并且光学图案具有非线性、非对称分布结构,在该结构中,从上面和侧面观察,峰部分和谷部分是不规则弯曲的。
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