[发明专利]硅氧烷自粘合剂、其生产方法、使用其的复合物及其应用有效
| 申请号： | 200880123324.7 | 申请日： | 2008-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101932638A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 让-马克·弗朗斯;肖恩·迪菲 | 申请（专利权）人： | 蓝星有机硅法国简易股份有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/18 | 分类号： | C08J7/18 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱;谢燕军 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及制备含有抗粘合硅氧烷涂层的底物的方法，该涂层从基于交联的硅氧烷油的抗粘合硅氧烷组合物获得，和其原先的性质相比，该涂层具有改良的粘合性，其中提供一底物，其至少部分地由抗粘合硅氧烷涂层涂覆，所述抗粘合硅氧烷涂层大约在大气压下，在可选掺杂的氮气氛围中或可选掺杂的二氧化碳氛围中，进行冷等离子体处理。本发明还涉及至少部分涂覆了抗粘合硅氧烷组合物的底物、硅氧烷自粘合复合物以及用途。 | ||
| 搜索关键词： | 硅氧烷 粘合剂 生产 方法 使用 复合物 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种制备含有抗粘合涂层的底物的方法，该涂层从基于优选至少部分交联的硅氧烷油的“抗粘合”硅氧烷组合物获得，和其原先的性质相比，该涂层具有改良的粘合性，其中提供一底物，其至少部分地由前述的涂层涂覆，并且大约在大气压下，在氮气氛围中，可选地掺有低于1％重量的一种或几种成分，选自下组：H2、N2O、乙炔、SiH4、CF4、CO2、O2、H2O，或者在二氧化碳氛围中，可选地掺有低于1％重量的一种或几种成分，选自下组：H2、N2O、乙炔、SiH4、CF4、N2、O2、H2O，用冷的等离子体处理该抗粘合的硅氧烷底物。
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