[发明专利]等离子体处理设备

摘要

本发明提供等离子体处理设备，该等离子体处理设备即使当两个电极的面积增加时也能均匀地将气体供应到阴极电极和阳极电极之间的空间，并且能够减小两个电极的厚度。两对阳极电极(4)和阴极电极(12)在等离子体处理设备(100)的腔(15)中布置为彼此相对。阴极电极(12)具有喷淋板(2)、后板(3)和中空室(17)。喷淋板(2)设置有第一喷气孔(18)，用于将引入中空腔(17)的气体喷到两个电极(12，4)之间的空间。用于从外部引入气体的进气口(31)布置在后板(3)的下表面(面对喷淋板(2)的中空腔(17)内壁(19))的电极端面上。用于将气体喷到中空腔(17)的第二喷气孔(32)以及用于将气体从进气口(31)引导到第二喷气孔(32)的气体引导部分(33)设置在中空室的内壁(19)上。

主权项

一种等离子体处理设备，包括：用于等离子体反应的反应腔；排气部分，用于将气体从所述反应腔排出；以及平板状的阴极电极和平板状的阳极电极，布置在所述反应腔中并彼此相对，其中所述阴极电极和所述阳极电极在其相对方向上布置有多组，每个所述阴极电极包括设置在其中的中空室以及喷淋板，所述喷淋板设置有用于将引入到所述中空室的气体从所述中空室喷到所述阴极电极和所述阳极电极之间的部分的多个第一喷气孔，用于将气体从所述阴极电极的外部引入的进气口设置在所述中空室的与所述阴极电极的所述喷淋板相对的内壁的电极端面处，并且用于将气体喷到所述中空室的多个第二喷气孔和用于将气体从所述进气口引导到所述第二喷气孔的气体引导部分设置在所述中空室的与所述喷淋板相对的所述内壁处。