[发明专利]堆积装置和堆积方法无效
申请号: | 200880125817.4 | 申请日: | 2008-11-21 |
公开(公告)号: | CN101932751A | 公开(公告)日: | 2010-12-29 |
发明(设计)人: | 安井宽治;西山洋;井上泰宣;三浦仁嗣 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人长冈技术科学大学;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/452 | 分类号: | C23C16/452;C01G9/03;C23C16/455;H01L21/205 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 陈剑华;苗堃 |
地址: | 新*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开的堆积装置具备:催化反应装置,含有:导入第1原料气体的导入部,和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器,和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部;反应性气体分离器,容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通;支持基板的基板支持部;和供给第2原料气体的供给部,所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应,使膜堆积于所述基板。 | ||
搜索关键词: | 堆积 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种堆积装置,其特征在于,具备:催化反应装置,含有:导入第1原料气体的导入部,和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器,和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部;反应性气体分离器,容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通;支持基板的基板支持部;以及供给第2原料气体的供给部,所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应,使膜堆积于所述基板。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的