[发明专利]薄膜分束器的制造无效

专利信息
申请号: 200880129130.8 申请日: 2008-05-06
公开(公告)号: CN102016665A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: J-S·约;S·V·马塔伊;M·R·T·谭 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13;G02B6/35
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李玲
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于制造薄膜分束器(200、300、400、500、600、612、716)的方法,包括:在支承衬底(202、608、700)中蚀刻孔隙(214、606、610、718、720);将分束器衬底(208、406、710)结合至支承衬底的上表面以使分束器衬底(208、406、710)覆盖该孔隙(214、606、610、718、720);以及将至少一个光学涂层(210、212、402、404、602、604、712、714)沉积在分束器衬底(208、406、710)上。一种薄膜分束器包括支承衬底(202、608、700)、利用半导体制造工艺在支承衬底(202、608、700)中产生的孔隙(214、606、610、718、720)、以及覆盖该孔隙(214、606、610、718、720)的分束涂层(210、402、602、712)。
搜索关键词: 薄膜 分束器 制造
【主权项】:
一种薄膜分束器(200、300、400、500、600、612、716),包括:具有孔隙(214、606、610、718、720)的支承衬底(202、608、700),所述孔隙(214、606、610、718、720)是利用半导体制造工艺在所述支承衬底(202、608、700)中形成的;以及覆盖所述孔隙(214、606、610、718、720)的分束涂层(210、402、602、712)。
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