[发明专利]物理气相沉积装置及物理气相沉积方法无效
| 申请号： | 200880130931.6 | 申请日： | 2008-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102131951A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 汤本敦史;丹羽直毅;广木富士男;山本刚久 | 申请（专利权）人： | 多摩-技术转让机关株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 冯雅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供使即使通过等离子体或电弧放电等加热也难以形成微粒的物质成膜的物理气相沉积装置及物理气相沉积方法。所述物理气相沉积装置包括在内部具备蒸发源材料(15)和对蒸发源材料(15)进行加热的加热部(16)的蒸发室(10)、在内部具备粉体的粉体供给源(20)、成膜室(30)，通过加热部(16)对蒸发源材料(15)进行加热而生成微粒(纳米粒子)，使微粒和粉体从超音速喷管(35)喷出并承载于超音速气流，从而使微粒和粉体物理气相沉积于成膜对象基板(33)。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 装置 及物 理气 方法 | ||
【主权项】：
一种物理气相沉积装置，其特征在于，包括：蒸发室，该蒸发室在内部具备蒸发源材料和对蒸发源材料进行加热的加热部，在规定的气体气氛中或大气中通过所述加热部对所述蒸发源材料进行加热而使其蒸发，由蒸发的原子生成微粒；粉体供给源，该粉体供给源在内部具备粉体；成膜室，该成膜室在内部具备混合部、与所述混合部连接的超音速喷管、成膜对象基板，所述混合部与形成从所述蒸发室移送含所述微粒的气体、从所述粉体供给源移送含所述粉体的气体的通路的移送管连接且使所述微粒和所述粉体混合，该成膜室使从所述蒸发室和所述粉体供给源移送的所述微粒和所述粉体承载于所述超音速喷管产生的超音速气流，从而使所述微粒和所述粉体物理气相沉积于所述成膜对象基板。
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