[发明专利]硅电磁感应熔融用石墨坩埚及利用其的硅熔融精炼装置无效
申请号: | 200880131521.3 | 申请日: | 2008-11-17 |
公开(公告)号: | CN102177283A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 张普允;安永洙;金儁秀;金东国;刘权钟 | 申请(专利权)人: | 韩国ENERGY技术研究院 |
主分类号: | C30B13/14 | 分类号: | C30B13/14 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 武晨燕;周义刚 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种能够实现间接熔融及直接熔融的硅电磁感应熔融用石墨坩埚及利用该坩埚的硅熔融精炼装置。本发明的硅电磁感应熔融用石墨坩埚是上部开放以装入硅原料,外侧壁被感应线圈围绕的呈圆筒形结构的石墨材质的坩埚,在该石墨坩埚中,形成有贯通上述坩埚的外侧壁和内侧壁的铅直方向的多个狭缝,使得由在上述感应线圈中流通的电流产生的电磁力向上述坩埚内部中心方向发生作用,从而使熔融的硅因上述电磁力而不会与上述坩埚的内侧壁接触。 | ||
搜索关键词: | 电磁感应 熔融 石墨 坩埚 利用 精炼 装置 | ||
【主权项】:
一种硅电磁感应熔融用石墨坩埚,所述石墨坩埚是上部开放以装入硅原料,外侧壁被感应线圈围绕的呈圆筒形结构的石墨材质的坩埚,其特征在于,形成有贯通所述坩埚的外侧壁和内侧壁的铅直方向的多个狭缝,使得由在所述感应线圈中流通的电流产生的电磁力向所述坩埚的内部中心方向发生作用,从而使熔融的硅因所述电磁力而不会与所述坩埚的内侧壁接触。
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