[发明专利]井流动控制系统和方法有效
申请号: | 200880131827.9 | 申请日: | 2008-11-03 |
公开(公告)号: | CN102203375A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | C·S·耶;B·A·戴尔;S·R·克林曼 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚上游研究公司 |
主分类号: | E21B17/00 | 分类号: | E21B17/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;陆惠中 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于烃井作业的流动控制系统和方法包含管道和流动控制装置。该管道限定井环状空间,并包含限定导流管的外部部件。井环状空间和导流管之间的流体交换由外部部件的可透部分(一个或多个)提供。该流动控制装置位于导流管内,包含导管限定构件和腔室限定构件。该导管限定构件(一个或多个)被配置成将该导流管分成至少两个流动控制导管。该腔室限定构件(一个或多个)被配置成将至少两个流动控制导管中的至少一个分成至少两个流动控制腔室。每个流动控制腔室具有至少一个入口和至少一个出口,其中每个适于允许流体从中流过,并留阻大于预定大小的颗粒。 | ||
搜索关键词: | 流动 控制系统 方法 | ||
【主权项】:
一种井流动控制系统,其包含:管道,所述管道适于放入井内以限定井环状空间,其中所述管道具有外部部件,所述外部部件限定内部导流管,并且其中所述外部部件至少一部分是可透的,允许所述井环状空间和所述导流管之间的流体交换;流动控制装置,所述流动控制装置适于放入所述管道的所述导流管内,其中所述流动控制装置包含至少一个导管限定构件和至少一个腔室限定构件;其中所述至少一个导管限定构件被配置成将所述导流管分成至少三个流动控制导管;其中所述至少一个腔室限定构件被配置成将所述至少三个流动控制导管中的至少两个分成至少两个流动控制腔室;其中所述至少两个流动控制腔室中的每个具有至少一个入口和至少一个出口;其中所述至少一个入口和所述至少一个出口中的每个适于允许流体从中流过并留阻大于预定大小的颗粒;并且其中所述至少三个流动控制导管中至少一个仅仅通过一个或多个流动控制腔室与所述井环状空间进行流体交换。
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