[发明专利]研磨片清洗液无效
| 申请号： | 200910001035.6 | 申请日： | 2009-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN101781612A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 闵学勇;邢振林 | 申请（专利权）人： | 昆山市百益电子科技材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/68 | 分类号： | C11D1/68 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种研磨片清洗液，其技术方案为：醇类1-10％；醚类1-30％；螯合剂0.1-5％；其余为去离子水，混合搅拌而形成，采用本技术方案能快速低温清洗研磨片，并能有效去除硅研磨片表面残留的各种有机物、金属离子和吸附粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 清洗 | ||
【主权项】：
一种研磨片清洗液，其特征在于清洗液组分及重量百份比如下：醇类1-10；醚类1-30；螯合剂0.1-5；余量为去离子水。
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